[중앙뉴스라인, 신기철기자] 특허청은 일본, 중국 특허청과 함께 오는 9월 3일 9시 30분 FKI타워 컨퍼런스센터(서울시 영등포구)에서 '제13회 한·일·중 디자인 포럼'을 개최한다고 밝혔다.
본 공개토론회(포럼)은 2010년부터 디자인 관련 3국 간 협력 강화 및 지식재산권 보호를 위해 매년 개최하고 있다. 이번 행사는 우리나라의 헤이그 협정 가입 10주년을 기념해 더욱 의미 있는 자리가 될 것으로 기대된다.
이번 공개토론회(포럼)의 주제는 ‘Design for Space(공간을 위한 디자인)’으로, 각국의 디자인 전문가들이 모여 건축 및 인테리어 디자인 보호를 목표로 다양한 주제를 논의할 예정이다.
주요 발표자로는 각국의 특허청 관계자, 건축 및 인테리어 디자인 업계 리더와 관련 기업 인사들이 참여한다. 헤이그(디자인 국제출원) 시스템과 공간디자인 관련 최신 이슈 및 사례 연구와 실무적인 해결책을 중심으로 발표가 진행될 예정이다. 이를 통해 각국의 디자인 보호 관련 법제도와 정책을 비교하고, 개선을 위한 협력 방안을 모색할 수 있을 것으로 기대된다.
또한 디자인 해외 출원을 준비하는 기업과 개인, 대리인에게는 헤이그 시스템을 통한 해외 출원 전략 마련을 위한 유의미한 정보가 제공될 것으로 예상된다.
특허청 디자인심사정책과 문창진 과장은 “이번 행사가 3국의 긴밀한 협력을 통해 국제적으로 조화로운 디자인 보호 기반이 마련되는 계기가 되길 바란다”며 “공개토론회(포럼)를 통해 도출된 다양한 의견과 제안들이 향후 정책 개발에 충실하게 반영될 수 있도록 노력하겠다”고 말했다.
한편, 공개토론회(포럼) 참가를 원하는 사람은 누구나 특허청 디자인맵 누리집을 통해 사전 등록할 수 있으며, 행사 당일 현장등록도 가능하다.
